斥资千万欧元投资电子束光刻系统 这家德国公司意欲何为？

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近日，德国光学组件和传感器系统供给商Jenoptik斥资万万欧元，投资了一种新的电子束（E-Beam）光刻系统。据悉，新的电子束系统将由总部位于德国耶拿的电子束手艺专家Vistec Electron Beam GmbH公司研制，将于2022年中期在德国德累斯顿工场投入使用。该系统是斥地和生产下一代超周详传感器的焦点部件，这对进一步斥地DUV和在半导体生产过程中竖立高精度EUV晶片曝光至关主要。

Jenoptik透露，新的电子束光刻系统能在300mm巨细的基底上实现精度约10纳米的光刻（约为毛发直径的1/ 2000）。Jenoptik把这项手艺作为超周详微光学制造的首要使能器，这是其传感器买卖的功能焦点。改善后的电子束光刻系统经由精度和天真性的提高，为将来半导体曝光手艺所需的传感器奠基了手艺根蒂。

2020年9月，Jenoptik收购了光学计量公司Trioptics 75％的股份，以期能进一步增强公司在光学和光电子范畴的竞争力（尤其是测试和测量手艺方面）。收购Trioptics后，Jenoptik估计全年收入将在7.55亿到7.75亿欧元之间。Jenoptik在光学、传感器手艺和周详机械范畴拥有跨越150年的专业经验，是全球领先的高质量光学和微光学系统斥地和生产合作伙伴之一，并致力于斥地和引进进步的半导体光刻手艺。

电子束曝光构造图

来自百度百科，作者tfihs2771

电子枪：高差别率的热场发射，配有高压，电子束的能量平日在10~100KeV。

电子枪准直系统：对电子枪发出的电子束进行较直。

电磁透镜：与光学透镜雷同，聚焦电子束。

消像散器：调节聚焦像散，削减误差。

光阑：改变电子束流。